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    半导体FPD等领域
     
  • 热处理成膜设备用m6官网
    热处理成膜设备采用的是在高温环境下也可进行润滑的特殊规格的m6官网。
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  • EB电子束曝光设备用m6官网
    由于 EB 电子束曝光设备使用的m6官网在强磁场环境下工作,因此采用的是非磁性材质的陶瓷m6官网。
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  • 蚀刻设备用m6官网
    由于蚀刻设备用m6官网在暴露于蚀刻液的状态下工作,所以使用的是耐腐蚀性强的陶瓷材质m6官网、及 采用了PTFE 涂层的m6官网。
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  • 离子注入设备用m6官网
    离子注入设备的真空室内采用的是捷太格特的高洁净m6官网,可避免因在真空中进行润滑、受到磨损等而产生杂质。
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  • 溅镀设备用m6官网
    溅射设备的高温、真空室内采用的是高温 Clean Pro 规格的m6官网。
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  • CMP设备用m6官网
    由于 CMP 设备m6官网在暴露于研削液的环境下工作,所以使用的是耐腐蚀性强的陶瓷材质m6官网,及采用了 PTFE 涂层的m6官网。
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  • 检测设备用m6官网
    检测设备用m6官网采用的是对检查不造成影响的非磁性m6官网。
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  • 晶片运送设备用m6官网

    晶片运送设备要求具备粉尘排放量低、使用寿命长的特点。

    为满足该用途,该装置采用的是与 Clean Pro 规格的组合陶瓷直线导轨,以及薄壁式 K 系列的深沟球型组合陶瓷m6官网。

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