半导体FPD等领域
热处理成膜设备用m6官网
热处理成膜设备采用的是在高温环境下也可进行润滑的特殊规格的m6官网。
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EB电子束曝光设备用m6官网
由于 EB 电子束曝光设备使用的m6官网在强磁场环境下工作，因此采用的是非磁性材质的陶瓷m6官网。
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离子注入设备用m6官网
离子注入设备的真空室内采用的是捷太格特的高洁净m6官网，可避免因在真空中进行润滑、受到磨损等而产生杂质。
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CMP设备用m6官网
由于 CMP 设备m6官网在暴露于研削液的环境下工作，所以使用的是耐腐蚀性强的陶瓷材质m6官网，及采用了 PTFE 涂层的m6官网。
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晶片运送设备用m6官网
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晶片运送设备要求具备粉尘排放量低、使用寿命长的特点。
为满足该用途，该装置采用的是与 Clean Pro 规格的组合陶瓷直线导轨，以及薄壁式 K 系列的深沟球型组合陶瓷m6官网。
